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Novità di Enfocus Phoenix 26.07
L'aggiornamento 26.07 di Enfocus Phoenix introduce innovazioni fondamentali per l'ottimizzazione dell'imposizione e prepara il software per le sfide tecnologiche future, garantendo maggiore flessibilità e controllo millimetrico sui flussi di lavoro.
Verso il Supporto Nativo Apple Silicon
Phoenix 26.07 segna ufficialmente l'inizio della transizione verso un'applicazione Apple Silicon nativa. Questa evoluzione è stata pianificata per anticipare la futura dismissione di Rosetta 2 da parte di Apple. In questa fase di conversione, gli utenti potrebbero notare alcune sottili differenze nell'aspetto e nell'interfaccia (look and feel) del software. Sebbene questa specifica release non offra ancora incrementi prestazionali massicci, è previsto un sensibile aumento della velocità operativa a partire da novembre, quando la migrazione sarà completata.
Gestione Avanzata dei Livelli per i Segni (Marks)
Questa versione introduce un controllo completo sull'ordinamento dei livelli per i segni. Ora è possibile definire la priorità di visualizzazione scegliendo tra tre opzioni:
- Default: mantiene il comportamento esistente, sovrapponendo i segni in ordine di inserimento.
- First (Primo): posiziona il segno dietro tutti gli altri segni e le pagine (ideale per sfondi).
- Last (Ultimo): posiziona il segno sopra tutti gli altri elementi (primo piano). Questa funzionalità è applicabile sia ai segni del prodotto che a quelli del dispositivo.
Controllo Granulare della Piegatura e Segnature Miste
La pianificazione dei prodotti rilegati diventa più precisa grazie alla possibilità di definire i cataloghi di piegatura a livello di sezione. Sono stati introdotti nuovi attributi per gestire meglio la produzione:
- Modalità di assemblaggio: scelta tra "Manuale" o "Largest First".
- Schemi di piega specifici: per singola sezione.
- Pagine per sezione: per prodotti cuciti a filo. Inoltre, Phoenix supporta ora la miscelazione di schemi di piega nella modalità Standard, permettendo combinazioni creative tra più prodotti nello stesso layout per analisi comparative più ampie.
Ottimizzazione dell'Offcut (Ritaglio)
L'integrazione dei valori di offcut è stata notevolmente potenziata per migliorare le operazioni di finitura:
- Una volta definito l'offcut, i margini non stampabili del dispositivo vengono preservati.
- I segni di taglio possono essere posizionati e dimensionati dinamicamente utilizzando i valori di offcut.
- Tutti i formati di esportazione per il taglio e i file JDF possono ora utilizzare i valori di offcut al posto dei valori finali di rifilo.
Miglioramenti della Stabilità e Bug Fix
Il rilascio 26.07 include correzioni mirate a garantire un flusso di lavoro senza interruzioni, tra cui:
- Risoluzione di problemi nell'analisi dei colori e degli inchiostri nei PDF.
- Miglioramenti alla modalità "Layout-by-Layout" per la minimizzazione dello scarto.
- Correzione di errori nell'importazione di file PDF+ tra diversi sistemi operativi (Mac vs Windows).
- Risoluzione del problema di scambio accidentale tra fronte e retro durante il posizionamento dei prodotti sul retro del layout.
